Grunderna i mikro- och nanoteknologi

Kärnan i kursen ägnas åt teori och praktik av mikro- och nano-tillverkningsmetoder, en av de viktigaste beståndsdelarna i den moderna Nanotekniken. Moderna mönster överföringstekniker som e-stråle- eller röntgenlitografi och olika tunnfilmsdeponeringsmetoder inklusive termisk-förångning, sputtring, kemisk-förångningsdeposition och epitaxi behandlas i denna kurs, med deras fysiska-och kemiska bakgrund. Tunnfilmbildning, filmstruktur och metoder för karakterisering förklarats, med särskild betoning på korrelation mellan deponeringsparametrar och resulterande materialegenskaper. Under föreläsningarna lär sig eleverna också vakuumsystem (inklusive system för drift och design) och fysikaliska processer i gaser. Dessutom blir några praktiska komponenter som CMOS-transistorer och lysdioder studerade i mer detalj.