Till sidans topp

Sidansvarig: Webbredaktion
Sidan uppdaterades: 2012-09-11 15:12

Tipsa en vän
Utskriftsversion

Effect of the Ion Beam Cu… - Göteborgs universitet Till startsida
Webbkarta
Till innehåll Läs mer om hur kakor används på gu.se

Effect of the Ion Beam Current Density on the Formation of Implanted Metal Nanoparticles in a Dielectric Matrix

Artikel i vetenskaplig tidskrift
Författare A.L. Stepanov
Vladimir Popok
Publicerad i Technical Physics Letters
Volym 29
Nummer/häfte 12
Sidor 977-979
Publiceringsår 2003
Publicerad vid Institutionen för fysik (GU)
Sidor 977-979
Språk en
Ämnesord Ion implantation, Nanoparticles, Optical reflectance and transmission, Atomic force microscopy
Ämneskategorier Optik, Ytor och mellanytor

Sammanfattning

The effect of the ion beam current density, varied within 4–15 uA/cm2, on the formation of metal nanoparticles in a subsurface layer of SiO2 substrates implanted with 30-keV Ag ions to a dose of 5x10**16 cm–2 was studied by optical spectroscopy and atomic force microscopy techniques. An increase in the ion beam current density leads to the formation of nanoparticles of a greater size as a result of the glass substrate heating and due to an increase in the diffusion mobility of implanted silver atoms. These results suggest the possibility of controlling the dimensions of implanted nanoparticles in dielectrics by means of variation of the ion beam current density during the process.

Sidansvarig: Webbredaktion|Sidan uppdaterades: 2012-09-11
Dela:

På Göteborgs universitet använder vi kakor (cookies) för att webbplatsen ska fungera på ett bra sätt för dig. Genom att surfa vidare godkänner du att vi använder kakor.  Vad är kakor?