Till sidans topp

Sidansvarig: Webbredaktion
Sidan uppdaterades: 2012-09-11 15:12

Tipsa en vän
Utskriftsversion

Highly conformal fabricat… - Göteborgs universitet Till startsida
Webbkarta
Till innehåll Läs mer om hur kakor används på gu.se

Highly conformal fabrication of nanopatterns on non-planar surfaces

Artikel i vetenskaplig tidskrift
Författare Inès Massiot
Christos Trompoukis
Kristof Lodewijks
Valérie Depauw
Alexandre Dmitriev
Publicerad i Nanoscale
Volym 8
Sidor 11461-11466
ISSN 2040-3364
Publiceringsår 2016
Publicerad vid Institutionen för fysik (GU)
Sidor 11461-11466
Språk en
Länkar pubs.rsc.org/en/content/articlehtml...
Ämneskategorier Nanoteknik

Sammanfattning

While the number of techniques for patterning materials at the nanoscale exponentially increases, only a handful of methods approach the conformal patterning of strongly non-planar surfaces. Here, using the direct surface self-assembly of colloids by electrostatics, we produce highly conformal bottom-up nanopatterns with a short-range order. We illustrate the potential of this approach by devising functional nanopatterns on highly non-planar substrates such as pyramid-textured silicon substrates and inherently rough polycrystalline films. We further produce functionalized polycrystalline thin-film silicon solar cells with enhanced optical performance. The perspective presented here to pattern essentially any surface at the nanoscale, in particular surfaces with high inherent roughness or with microscale features, opens new possibilities in a wide range of advanced technologies from affordable photovoltaics and optoelectronics to cellular engineering.

Sidansvarig: Webbredaktion|Sidan uppdaterades: 2012-09-11
Dela:

På Göteborgs universitet använder vi kakor (cookies) för att webbplatsen ska fungera på ett bra sätt för dig. Genom att surfa vidare godkänner du att vi använder kakor.  Vad är kakor?