Till sidans topp

Sidansvarig: Webbredaktion
Sidan uppdaterades: 2012-09-11 15:12

Tipsa en vän
Utskriftsversion

Hole mask colloidal litho… - Göteborgs universitet Till startsida
Webbkarta
Till innehåll Läs mer om hur kakor används på gu.se

Hole mask colloidal lithography on magnetic multilayers for spin torque applications

Paper i proceeding
Författare Sohrab R. Sani
Johan Persson
Alexandre Dmitriev
Mikael Käll
Johan Åkerman
Publicerad i Journal of Physics Conference Series. International Conference on Magnetism (ICM 2009). Karlsruhe, GERMANY. JUL 26-31, 2009
Volym 200
Sidor 072078
ISSN 1742-6588
Publiceringsår 2010
Publicerad vid Institutionen för fysik (GU)
Sidor 072078
Språk en
Länkar dx.doi.org/10.1088/1742-6596/200/7/...
Ämneskategorier Magnetism

Sammanfattning

We demonstrate the fabrication of metallic nano-contacts on magnetic multilayers using a Hole Mask Colloidal Lithography technique (HCL) based on Polystyrene spheres. The method applies PMMA as a sacrificial layer upon which a hole pattern is formed after lift- off of the spheres. An Au layer functions as a hard mask for the PMMA and the PMMA subsequently masks the SiO2 during its etching. The resulting pattern is a dense collection of randomly located nano-holes through a SiO2 film. Final devices are made using traditional photolithography to define a 600 nm circular mesa with about 3 to 4 nano-holes per device, and patterning of a metallic top contact.

Sidansvarig: Webbredaktion|Sidan uppdaterades: 2012-09-11
Dela:

På Göteborgs universitet använder vi kakor (cookies) för att webbplatsen ska fungera på ett bra sätt för dig. Genom att surfa vidare godkänner du att vi använder kakor.  Vad är kakor?