Till sidans topp

Sidansvarig: Webbredaktion
Sidan uppdaterades: 2012-09-11 15:12

Tipsa en vän
Utskriftsversion

Production of nano-holes … - Göteborgs universitet Till startsida
Webbkarta
Till innehåll Läs mer om hur kakor används på gu.se

Kontaktformulär








 


OBS! Vill du ha svar, ange e-post eller telefonnummer!




Production of nano-holes patten on Si(111) by colloidal lithography for growth of InAs nanowires

Paper i proceeding
Författare Elham Fadaly
Ines Massiot
Mahdad Sadeghi
Alexandre Dmitriev
Huan Zhao
Publicerad i 15th International Conference on Nanotechnology
Publiceringsår 2015
Publicerad vid
Språk en
Ämnesord Nanomaterials; semiconductors; colloidal lithography; InAs nanowires; MBE; selective area epitaxy
Ämneskategorier Elektroteknik och elektronik, Nanoteknik

Sammanfattning

Colloidal lithography is a simple, versatile and low-cost technique that can be used to pattern diverse nanostructures on a wafer scale. In this work, colloidal lithography utilizing polystyrene nanoparticles as a lift-off mask was used to produce nanohole patterns on Si (111) substrates. The hole size, which is determined by the size of the polystyrene particles, can be well controlled by oxygen plasma shrinking. Using this technique, we were able to obtain nanohole pattern with feature size down to 50 nm, which is close to the limit that conventional lithographic techniques can reach, in a time-efficient and cost effective manner. InAs nanowires were successfully grown on the patterned substrates using molecular beam epitaxy.

Sidansvarig: Webbredaktion|Sidan uppdaterades: 2012-09-11
Dela:

På Göteborgs universitet använder vi kakor (cookies) för att webbplatsen ska fungera på ett bra sätt för dig. Genom att surfa vidare godkänner du att vi använder kakor.  Vad är kakor?